近多少年 ,光刻受国内大情景所影响,机巨建树“半导体”未然是放富链全天下规模内最受关注的行业之一。
而一谈起半导体,狠话光刻机永世是全自绕不外去的热门话题,由于光刻机是主芯半导体制作的中间配置装备部署之一,其在半导体制作历程中处于颇为关键的片财位置 。
因此 ,没戏良多人将光刻机誉为“半导体工业皇冠上的光刻明珠” 。
当初的机巨建树光刻机市场,泛起出”一超双强“之势,放富链ASML 、狠话尼康、全自佳能简直占有了所有份额。主芯
其中 ,ASML 无疑是实力最强,且最被公共所熟知的光刻机配置装备部署制作商。
早在 2018 年,ASML 在高端市场占有的份额就高达 90% ,在 10nm 节点如下 ,更是稳稳占有 100% 的市场 。
在半导体工艺进入 7nm 制程的节点后,惟有 ASML 能制作出极紫外(EUV)这一先进水准的光刻机。
此前,ASML 的 CEO 兼总裁彼患上・维尼克曾经泄露过下一代极紫外光刻机的新闻,将在 2024 年开始出货 。
他展现 ,就临时而言 ,妄想每一年破费 20 台。
从 ASML 官网宣告的信息来看 ,下一代极紫外光刻机将命名为 EXE 系列,数值孔径将由 0.33 增至 0.55,用于 2nm 及如下的制程工艺。
不外 ,思考到出货后